真空技術與應用
KASHIYAMA工業株式會社，多年來致力于真空技術的研究，不斷開發進取，在半導體制造領域和高科技行業中擁有極高的信譽。尤其在半導體制造領域，獲得了客戶的高度評價與信賴。KASHIYAMA工業的干式真空泵系列已經成為半導體制造業與液晶顯示制造行業的標準設備。并，除此之外，魯式及排氣組合式真空泵設備則在其他領域得到廣泛應用。關鍵詞：手持式等離子清洗機，Kashiyama真空泵，等離子蝕刻機，等離子去膠機，Honle，常壓等離子清洗機，Yamato總代理，YAMATO噴霧干燥器
Harsh Process ( SDE系列 )
· 適用于所有的制程，耐久、耐腐蝕。
等離子蝕刻機
Light process ( MU-X&MU-P/H系列)
· 同時實現了節能、輕量化，是目前世界上同等級羅茨泵中最節能的系列。
· 節能、小型、輕量，可以嵌入到各種設備中。
· 除了節能、輕量的MU-X系列以外，還有可以對應一部分工藝的MU-P系列。
· 大排氣量
進口等離子清洗機
SDE&SDL系列
· 適用于半導體、液晶面板等行業的大排氣量干泵。嚴苛制程上為SDE系列，輕制程上為SDL系列。
等離子去膠機
NeoDry系列
· 追求減低整體成本的一款空冷式真空泵。
· 不需要循環冷卻水，面向一般產業、分析、研究開發等行業。
YAMATO噴霧干燥器
SDE 系列
NeoDry 系列
SDL 系列
MU-X & MU-P/H 系列
NeoDry系列 小型?風冷?干式真空泵
NeoDry系列
|
型號 |
最大排氣速度(L/min) |
極限壓力（Pa） |
|---|---|---|
|
NeoDry7E |
110 |
5.0 |
|
NeoDry15E |
250 |
1.0 |
|
NeoDry30E |
500 |
1.0 |
|
NeoDry36E |
600 |
1.0 |
|
NeoDry60E |
1,000 |
2.0 |
|
Neodry100E |
1,670 |
2.0 |
|
NeoDry300E |
,000 |
0.3 |
MU-X(P/H)系列 低耗能0.35kw?省空間?Harsh Process(P/H)
MU-X（ P/H )系列
|
型號 |
最大排氣速度(L/min) |
極限壓力（Pa） |
|---|---|---|
|
MU100 X（ P/H ) |
1,660 |
3.0 |
|
MU180 X（ P/H ) |
3,000 |
5.0 |
|
MU300 X（ P/H ) |
5,000 |
0.5 |
|
MU600 X（ P/H ) |
10,000 |
0.5 |
|
MU1218 X（ P/H ) |
20,000 |
0.5 |
|
MU20N18 X（ P/H ) |
30,000 |
0.5 |
|
MU30N18 X（ P/H ) |
50,000 |
0.5 |
SDE系列 Harsh Process?節能?大排氣量
SDE系列
|
型號 |
最大排氣速度(L/min) |
極限壓力（Pa） |
|---|---|---|
|
SDE90X |
1,300 |
1.3 |
|
SDE120TX |
1,500 |
1.3 |
|
SDE200 |
3,300 |
1.3 |
|
SDE303X |
5,000 |
0.5 |
|
SDE603X |
10,000 |
0.5 |
|
SDE1203TX |
20,000 |
0.5 |
|
SDE20N12TX |
30,000 |
0.5 |
|
SDE30N20 |
50,000 |
0.5 |
|
SDE60N20 |
100,000 |
0.5 |
SDL系列 快節奏排氣?大排氣量
?SDL系列
|
型號 |
最大排氣速度(L/min) |
極限壓力（Pa） |
|---|---|---|
|
SDL12E50/60 |
25,000 |
0.8 |
|
SDL20E60 |
40,000 |
0.8 |
|
SDL36E60 |
60,000 |
0.8 |
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